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      高精度溫控系統(tǒng)源頭工廠

      高端非標定制溫度控制解決方案提供商

      制冷加热控温系统(微通道/管式反应器专用)

      帕尔贴Chiller

      product & project

      冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制;

      基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理,帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制;

      对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制,使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺;

      快速和精确的温度控制,能够满足任何严苛的工艺要求;

      高效节能,节省空间,同时还能够稳定的控制温度。

      帕尔贴Chiller(images 3)
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      帕尔贴Chiller
      型号TEC-1200TEC-2500WTEC-4500W
      温度范围-20℃~90℃
      控温精度±0.1℃
      制冷能力20℃1200W2450W4500W
      10℃900W1925W3500W
      0℃600W1400W2600W
       -10℃350W875W1600W
       -20℃80W350W700W
      制热能力>3000W>6000W>12000W
      泵类型直流磁力泵 
      压力(bar)≤4
      流量 15L/min at 2bar
      流体Galden HT135
      冷却水温度DI<20℃
      冷却水流量≥12L/min≥20L/min≥32L/min
      CDA开启温度<30℃
      CDA压力0.5-0.8bar
      CDA流量2-3m³/h
      CDA露点温度≤30℃
      标准电源三相AC208V   50/60Hz

      LNEYA 帕尔贴热电的CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制-20℃90℃
      快速和精确的温度控制,能够满足任何严苛的工艺要求基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理,lneya帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制。对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制,使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺。高效节能,节省空间,同时还能够稳定的控制温度

      LNEYA 帕尔贴热电的CHILLER有五款款型号可选,为晶圆蚀刻工艺提供可靠和精确的温度控制

      重要功能和优势
      ·高可靠性和低使用成本
      ·工业空间占用率小
      ·极低的导热液填充量
      ·低能耗,没有压缩机和制冷剂的系统,同时只有在有负载时输出,大幅度降低能耗
      制热、直冷时,冷热部件没有与导热液直接接触
      ·动态控温,精准控制过程温度,快速温度响应
      ·温度漂移保护功能使得刻蚀的轮廓更加稳定
      ·改善Wafer-Wafer的稳定性
      ·模块化部件使得维修更加方便
      ·使用全氟液体

      帕尔贴Chiller(images 8)

      产品优势:

      • 40℃以内加热⽅式采⽤压缩机热⽓加热。
      • Chiller循环系统采⽤全密闭设计、采⽤磁⼒驱动泵。
      • Chiller100%氦检测,100%安规检测,确保安全可靠。
      • chiller100%经过24⼩时连续运⾏拷机。
      -20~+90控温范围
      ±0.1℃控温精度
      5000+年产量

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